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纳米陶瓷粉体是介于固体与分子之间的具有纳米数量级(0.1~100nm)尺寸的亚稳态中间物质。随着粉体的**细化,其表面电子结构和晶体结构发生变化,产生了块状材料所不具有的的效应。
复杂的形状都可以处理:如深孔、内管、细缝等。 CVD的优点:①镀膜温度太高,对基材和反应设备的耐热性要求很高,很多工件难以承受; ②高温使基材尺寸变化和变形严重,故适于精密度高的工件; ③对于要求工件局部镀膜,难以实现; ④活泼性气体源的使用,制程中有**、毒性气体泄漏等隐患,且对环境有污染。 TD简介(Thermal Diffusion Coating Process——热扩散法碳化物覆层处理)(1)在空气炉或盐槽中放入一个耐热的坩埚,将硼砂放入坩埚加热熔化至800~1200℃,然后加入相应的碳化物形成粉末(如钛、钡、铌、铬),再将钢或硬质合金工件放入坩埚中浸渍保温1~2小时,加入元素将扩散至工件表面并与钢中的碳发生反应形成碳化物层(如:VC—碳化钒;CrC—碳化铬),所得到的碳化物层具有很高的硬度和耐磨性。(2)TD*主要适合于以下铬钢的工件。
纳米陶瓷的制备工艺主要包括纳米粉体的制备、成型和烧结。纳米陶瓷粉体的制备方法多种多样,但应用较广且方法较成熟的主要有气相合成和凝聚相合成2种,再加上一些其它方法
不同的镀膜温度镀的薄膜的特性会有些许差异,用TiN(氮化钛)举例说明:a. 颜色:高温镀的就会更金黄、光亮;低温镀的就会相对淡一些。 耐磨性:低温镀的相对于高温镀的耐磨性要差一些。 如何选择回火温度 ①无论何种材料,选择不同的回火温度所得到的硬度值一般是不一样的。 ②如果在硬度、韧性等基本要求都可以满足的情况下,请尽量选择更高的回火温度,以便于我们镀膜处理可以选择更高的温度,以达到更佳的效果。
并非任何材料都可以选择高温回火,因为有些材料选择高温回火比低温回火得到的硬度值相差很多,甚至可能达到20HRC。 不同的材料,其热处理特性也是不同的。应如何选择适合的回火温度, 工件外形与镀面工件**尺寸: 细长件:长度≤1000mm; 圆柱形大模具,圆柱面未涂层重点:**尺寸≤Φ800*800mm; 板状大模具,板的一面为涂层重点:**尺寸≤800(长)*650(宽)*450(高)mm。 工件上必须有不需要涂层的部位(如柄部、孔、螺纹、台阶等),以便于涂层中用于支撑和固定工件。
镀层性能不同于基体金属,具有新的特征。根据镀层的功能分为防护性镀层,装饰性镀层及其它功能性镀层。 电镀时,镀层金属或其他不溶性材料做阳,待镀的工件做阴,镀层金属的阳离子在待镀工件表面被还原形成镀层。能增强金属的抗腐蚀性(镀层金属多采用耐腐蚀的金属)、增加硬度、防止磨耗、提高导电性、光滑性、耐热性和表面美观。
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