谢岗镇真空涂层 模具镀钛跟铬的区别

丰富的基体材料选择 镀膜工艺可以实现在多种材料上沉积(不锈钢/铜/锌合金/钛/铁等)。实现工件轻量化的同时可以有良好的机械性能。 PVD离子镀是近30年发展为迅猛的表面处理技术之一，通过在产品上镀制1-100微米的膜层，提升产品的耐磨、耐腐蚀、耐高温氧化、润滑等性能，在航空航天、装备领域，PVD离子镀技术的应用非常广泛；目前航空航天工业越来越注重减少碳排放量、降低维护成本及总营运成本。高新材料是减轻重量、延长使用寿命及减少燃油消耗的关键因素，而航空航天方面的涂层应用，使得常规和可替代轻型材料的使用成为可能，从而增加产品性能并降低其总成本；与许多常规表面涂层不同，PVD技术制造为环保友好涂层工艺,对环境没有任何污染。
从纳米粉体制成块状纳米陶瓷材料，就是通过某种工艺过程，除去孔隙，以形成致密的块状纳米陶瓷材料，而在致密化的过程中，又保持了纳米晶的特性。

包装：任何工件在交我司做涂层的运输途中，均需要有包装，且包装必须能保证工件的安全。 对于锋利刃具，如铣刀、丝攻、铰刀等，建议采用每只产品之间都有区隔的包装方式。 对于较重的大型件，如果采用快递或货运，一定要有足够强度的包装箱，以保证运输途中不被损伤。 PVD涂层与其他表面处理的比较 CVD简介（Chemical Vapor Deposition——化学气相沉积）（1）将各种化学反应物质：如四氯化钛（TiCl4）和甲烷（CH4）等含碳气体（或其它碳氮气体）蒸气等通入反应炉体内，在高温（900~1200℃）状态下，TiCl4中的钛（Ti）和碳氢化合物中的碳（C）在模具表面进行化学反应，从而生成一层金属化合物涂层碳化钛（TiC）。利用不同的反应物，可得到不同的薄膜，如TiN、Ti（CN）、CrC等等。 CVD的优点： ①镀膜与基材的附着性优良；

由于陶瓷粉料的颗粒大小决定了陶瓷材料的微观结构和宏观性能。如果粉料的颗粒堆积均匀，烧成收缩一致且晶粒均匀长大，那么颗粒越小产生的缺陷越小，所制备的材料的强度就相应越高，这就可能出现一些大颗粒材料所不具备的特性能。

复杂的形状都可以处理：如深孔、内管、细缝等。 CVD的优点：①镀膜温度太高，对基材和反应设备的耐热性要求很高，很多工件难以承受； ②高温使基材尺寸变化和变形严重，故适于精密度高的工件； ③对于要求工件局部镀膜，难以实现； ④活泼性气体源的使用，制程中有**、毒性气体泄漏等隐患，且对环境有污染。 TD简介（Thermal Diffusion Coating Process——热扩散法碳化物覆层处理）（1）在空气炉或盐槽中放入一个耐热的坩埚，将硼砂放入坩埚加热熔化至800~1200℃，然后加入相应的碳化物形成粉末（如钛、钡、铌、铬），再将钢或硬质合金工件放入坩埚中浸渍保温1~2小时，加入元素将扩散至工件表面并与钢中的碳发生反应形成碳化物层（如：VC—碳化钒；CrC—碳化铬），所得到的碳化物层具有很高的硬度和耐磨性。（2）TD*主要适合于以下铬钢的工件。
镀层性能不同于基体金属，具有新的特征。根据镀层的功能分为防护性镀层，装饰性镀层及其它功能性镀层。 电镀时，镀层金属或其他不溶性材料做阳，待镀的工件做阴，镀层金属的阳离子在待镀工件表面被还原形成镀层。能增强金属的抗腐蚀性（镀层金属多采用耐腐蚀的金属）、增加硬度、防止磨耗、提高导电性、光滑性、耐热性和表面美观。
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